Helios — инструмент для высокоразрешающего 2D и 3D-анализа материалов, создания и доводки нанопрототипов, реинжиниринга, а также подготовки образцов высочайшего качества для ПЭМ и АЗТ. Технология Elstar™ обеспечивает детализацию в нанометровом диапазоне в любых режимах работы. Использование технологии UC+ с монохроматором, а также режим иммерсии позволяют работать с экстремальными увеличениями при малых ускоряющих напряжениях и получать значимые данные о структуре поверхностного слоя. Helios Hydra с ионами Xe, Ar, O и N в качестве первичного пучка и с автоматической системой их переключения — идеальное решение для исследования больших объектов. Данная технология обладает высокой скоростью травления и дает возможность быстро получить достоверную информацию о структуре объектов и материалов с субнанометровым разрешением, а лазерная приставка делает исследования на Helios поистине мультимасштабными, обеспечивая 3D-анализ миллиметровых областей интереса.


  • SKU: EL023621
  • Цена: 


Подробнее


Основные преимущества:

  • электронная колонна Elstar с монохроматором UC+ для работы с большими токами и субнанометровым разрешением изображения в СЭМ на низких ускоряющих напряжениях;
  • возможность оснащения ионными колоннами Ga+, Xe+, O+, N+, Ag+, а также фемтосекундным лазером для препарирования и анализа образцов в масштабе от микронов до миллиметров с нанометровым разрешением;
  • автоматизированная подготовка образцов для ПЭМ и АЗТ высочайшего качества in-situ с прецизионным позиционированием области и объекта интереса;
  • мультимодальная 3D-характеризация образца.
Тип микроскопаДвухлучевая система
Область примененияМатериаловедение
Направление деятельности3D-анализ
Объекты интереса1,1 нм – 10 нм
Характеристики электронной пушки:
Тип катодаАвтоэмиссионный катод типа Шоттки
Максимальное разрешение, нм0,6 (SE)
Диапазон ускоряющего напряжения, В350–30 000
Минимальная энергия приземления электронов, эВ20
Максимальный ток зонда, нА100
Предметный столик
Тип столика
Мультифункциональный на 18 держателей 12 ммНаличие
ПьезоНаличие
МеханическийНет
Максимальный вес образца, г500
Максимальный размер образца, Ø мм150
Ход по осям X и Y, мм150 × 150
Воспроизводимость по осям X и Y, мкм< 1,0
Ход по оси Z, мм55
Поворот, град.360
Наклон, град.-10 / +60
Ширина камеры, мм379
Количество портов для установки дополнительных детекторов, шт.21
Детекторы:
Детектор вторичных электронов Эверхарта-Торнли (ETD)Наличие
ИК-камера для наблюдения положения образца в камереНаличие
Навигационная камера высокого разрешения Nav-Cam+™Наличие
Интегрированная система измерения тока лучаНаличие
Детектор вторичных электронов для низкого вакуума (LVD)Нет
T1 – нижний внутрилинзовый детекторНет
T2 – верхний внутрилинзовый детекторНет
T3 – внутриколонный детекторНет
Внутрилинзовый детектор Elstar SE/BSE (TLD-SE, TLD-BSE)Наличие
Внутриколонный детектор Elstar SE/BSE (ICD)Наличие
Внутриколонный детектор Elstar BSE (MD)Наличие
Детектор направленных обратно-отраженных электронов (DBS)Опция
Газовый аналитический детектор обратно-отраженных электронов DBS-GADНет
Детектор прошедших электронов STEM 3+Опция
Детектор для катодолюминесценции (CL)Опция
Детектор RamanОпция
EDSОпция
EBSD/WDSОпция
Режимы вакуума:
Высокий вакуум, Па< 2,6 × 10 ⁻⁴
Низкий вакуум, ПаНет
Безмасляная вакуумная системаНаличие
Характеристики ионной пушки:
Ga+Наличие
Xe+Наличие
O+, Ar+, N+Наличие
Система нейтрализации зарядаНаличие
Диапазон ускоряющего напряжения, кВ0,5–30 (Ga), 2–30 (PFIB)
Максимальный ток пучка, нА65 (Ga), 2500 (PFIB)
Максимальное разрешение, нм2,5 (Ga), 10 (PFIB)
Дополнительное оборудование:
Лазерная приставкаОпция
Криоочистка камерыОпция
Плазменная очистка камерыОпция
ЛитографияОпция
Крио-СЭМОпция
ГИСОпция
МанипуляторОпция
Зондовые станцииОпция
Панель управления микроскопомОпция
Джойстик для управления столикомОпция
Столик для охлажденияОпция
Столик для нагреваОпция
Столик для растяжения/сжатияОпция
Вакуумный шлюзОпция
Функция замедления пучкаОпция
Программное обеспечение:
MAPS™Опция
MAPS™ + correlative workОпция
AutoTEMОпция
Auto Slice&ViewОпция
ColorSEM TechnologyОпция
FLASHОпция
SmartAlign TechnologyОпция
Pattern generation softwareОпция
AutoScript 4, Python-based Application Programming Interface (API)Опция
TopoMaps for image colorization, image analysis and 3D surface reconstructionОпция
Remote controlОпция
Web-enabled data archiveОпция
Тип
Электронные