Vacuum station universal VUP-7

Преимущества

• получает пленки металлов, сплавов, полупроводников, многокомпонентной керамики;
• производит распыление с одного-двух магнетронов одновременно или последовательно;
• позволяет комбинировать процессы распыления с различных физических источников без разгерметизации рабочего объема;
• позволяет нагревать и стабилизировать температуру подложки;
• позволяет вращать держатель подложки с заданой скоростью;
• позволяет производить ионную очистку образца;
• увеличеные габариты рабочего объема позволяют дополнительно размещать в нем несколько физических источников и средств контроля за процессами напыления;
• высокая скорость осаждения;
• получение особо чистых пленок;
• высокая адгезия пленок и подложки;
• возможность изменения структуры и свойств пленок;
• возможность распыления нескольких материалов без разгерметизации объема;
• низкая пористость пленок;
• небольшое тепловое воздействие на обрабатываемую поверхность;
• высокая энергетическая эффективность процессов.